GNW-News: GT Advanced Technologies eröffnet neue Fertigungsstätte für Siliziumkarbid

GT Advanced Technologies eröffnet neue Fertigungsstätte für Siliziumkarbid

Die hochgradig skalierbare Anlage wird der wachsenden Nachfrage nach

hochwertigem Siliziumkarbidmaterial gerecht werden

HUDSON, N.H., 28. Juni 2018 (GLOBE NEWSWIRE) -- Die GTAT Corporation (GTAT) hat

am Dienstag, 26. Juni 2018, ihre neue hochmoderne Siliziumkarbid-

Fertigungsanlage mit einer Neubaueinweihungszeremonie eröffnet, an der Vertreter

des Bundesstaats und der Region teilnahmen, die vor Ort waren, um das Ereignis

zu feiern. Auf der Anlage in Hudson, New Hampshire, befinden sich auch die neue

Unternehmenszentrale sowie ein modernes Forschungs- und Entwicklungszentrum.

Siliziumkarbid, ein entscheidendes Material für Hochleistungselektronik, ist ein

Schlüsselelement für eine neue Generation von Produkten in wachsenden Märkten

wie Elektrofahrzeugen, Rechenzentren und Solarsystemen. GTAT ist führend in der

Entwicklung fortschrittlicher Materialien, Ausrüstungen und Technologielösungen

für globale Märkte im Bereich der Photovoltaik und Optoelektronik.

"Die Eröffnung unserer neuen Siliziumkarbid-Produktionsstätte ist ein

bedeutender Meilenstein für den Übergang des Unternehmens von einem

Ausrüstungsanbieter zu einem Rohstoffunternehmen", sagte Greg Knight, President

und Chief Executive Officer von GTAT. "Diese wunderschöne, neue

Produktionsstätte positioniert uns als eines der wenigen Unternehmen weltweit

mit dem Know-how und der Kapazität, qualitativ hochwertiges

Siliziumkarbidmaterial für eine wachsende Anzahl von

Leistungselektronikanwendungen in wachstumsstarken Märkten anzubieten. Unsere

Expertise in Bezug auf Kristallwachstumsanlagen, die Verwaltung von Lieferketten

und profundes Fachwissen über einer Reihe fortschrittlicher Materialien hat uns

einen Wettbewerbsvorteil bei der Erfüllung der wachsenden Nachfrage nach

Halbleitern mit breiter Bandlücke verschafft."

Das Unternehmen vermarktet weiterhin andere Technologien wie seine neuen

Rohrwendeln zur Senkung der Kosten für die Herstellung von Polysilizium und

seine kontinuierliche Cz-Zuführung, die die Kosten für die Herstellung von

monokristallinen Siliziumwafern für die Solarindustrie senkt.

Über die GTAT Corporation

Die GTAT Corporation ist ein diversifiziertes Technologieunternehmen, das

fortschrittliche Materialien und innovative Kristallwachstumstechnologie für die

Solar-, Leistungselektronik- und Optoelektronik-Industrie herstellt. Die

technischen Innovationen des Unternehmens beschleunigen über diese

diversifizierten globalen Märkte hinweg das Wachstum einer neuen

Produktgeneration. Weitere Informationen über das Unternehmen erhalten Sie

unter www.gtat.com.

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Kontakt:

Unternehmen

Jessica Forleo

jessica.forleo@gtat.com

+1.603.417.2211

Medien

Jeff Nestel-Patt

jeff@jnpmarketinggroup.com

+1.978.761.8303

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Source: GT Advanced Technologies via GlobeNewswire